





立式濕氧化爐技術指標
◎適用范圍:適用于VCSEL等光電器件的熱氧化工藝
◎精準的溫控與均勻性:能在300℃至500℃的關鍵溫度范圍內實現高均勻性加熱,可在此范圍內實現≤±1℃的溫度精準控制
◎水汽控制:能精確控制水汽發生和輸送,保證反應環境穩定
◎批量處理與自動化:支持單次25-75片晶圓同時處理,并具備全自動晶圓搬運功能,滿足量產需求
立式濕氧化爐技術指標
◎適用范圍:適用于VCSEL等光電器件的熱氧化工藝
◎精準的溫控與均勻性:能在300℃至500℃的關鍵溫度范圍內實現高均勻性加熱,可在此范圍內實現≤±1℃的溫度精準控制
◎水汽控制:能精確控制水汽發生和輸送,保證反應環境穩定
◎批量處理與自動化:支持單次25-75片晶圓同時處理,并具備全自動晶圓搬運功能,滿足量產需求
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